Reaktiv magnetronsputtering er en moden teknik til at afsætte et tyndt sammensat lag på en bred vifte af substrater som et toplag eller som et mellemlag i en flerlagsbelægning. Omfanget af "tynd" strækker sig fra nogle få nanometer op til flere mikrometer.
Hvorfor sprutter en magnetron?
Magnetronforstøvning er kollisionsprocessen mellem indfaldende partikler og mål … Magnetronforstøvning øger plasmadensiteten ved at indføre et magnetisk felt på overfladen af målkatoden og udnytte begrænsningerne af magnetfeltet på de ladede partikler for at øge sputteringshastigheden.
Hvad menes der med reaktiv sputtering?
Reaktiv sputtering er en proces, der gør det muligt at aflejre forbindelser ved at indføre en reaktiv gas (typisk oxygen eller nitrogen) i plasmaet, som typisk dannes af en inert gas som f.eks. argon (mest almindeligt), xenon eller krypton.
Hvordan virker magnetronforstøver?
Magnetronforstøvning er en aflejringsteknologi, der involverer et gasformigt plasma, som genereres og begrænses til et rum, der indeholder det materiale, der skal deponeres – 'målet'. … Disse kollisioner forårsager en elektrostatisk frastødning, som 'slår' elektroner af fra de sputterende gasatomer, hvilket forårsager ionisering.
Hvorfor sprutter RF?
RF eller Radio Frequency Sputtering er teknikken involveret i at veksle det elektriske potentiale af strømmen i vakuummiljøet ved radiofrekvenser for at undgå, at der opbygges en ladning på visse typer sputtermålmaterialer, hvilket over tid kan resultere i bue ind i plasmaet, der udspyder dråber …
